氧化镁(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。
如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。
由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大)
所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。
可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。
晶体参数:
晶系
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立方晶系Fm3m
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晶格常数(Å)
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A=4.130
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熔点(℃)
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2800
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密度(g/cm3)
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3.58
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比热(cal/g℃)
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0.27
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莫氏硬度
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5.5
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热膨胀系数(/℃)
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11.2x10-6
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介电常数
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ε= 9.65
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热导率(卡/度•厘米•秒)
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0.14
@300°K
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特点
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可得到大尺寸,价格较低
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生长方法
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弧熔法
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基片规格:
尺
寸: 10x3,10x5,10x10,15x15,Ф15,20x15,20x20,Ф20,Ф1″,Ф2″等
厚
度: 0.5mm,1.0mm.
表面抛光:
单面或双面
取向:<100>
<110> <111>
晶面定向精度:±0.5°
边缘定向精度:
2°(特殊要求可达1°以内)
斜切晶片:可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片
Ra:≤5Å(5μm×5μm)
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