基片,jipian,BW10-氧化镁单晶基片

 


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BW10-氧化镁单晶基片

货号:206ll94lxl0901

氧化镁(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。
如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。
由于
MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大)
所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。

可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。
晶体参数:

晶系

  立方晶系Fm3m

晶格常数(Å

    A=4.130

熔点(℃)

  2800

密度(g/cm3

    3.58

比热(cal/g℃)

    0.27

莫氏硬度

    5.5

热膨胀系数(/℃)

    11.2x10-6

介电常数

   ε= 9.65

热导率(卡/度•厘米•秒)

  0.14  @300°K

特点

  可得到大尺寸,价格较低

生长方法

  弧熔法

 

基片规格:

    寸: 10x3,10x5,10x10,15x15,Ф15,20x15,20x20,Ф20,Ф1″,Ф2″等

    度: 0.5mm,1.0mm.

表面抛光: 单面或双面

取向:<100>  <110>  <111>

晶面定向精度:±0.5°

边缘定向精度: 2°(特殊要求可达1°以内)

斜切晶片:可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片

Ra:≤5Å(5μm×5μm)

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